[发明专利]一种光罩及利用该光罩在磁头表面形成气垫面图案的方法无效

专利信息
申请号: 200610079939.7 申请日: 2006-04-27
公开(公告)号: CN101064118A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 金则清;尹辉;肖爱龙 申请(专利权)人: 新科实业有限公司
主分类号: G11B5/60 分类号: G11B5/60;G11B21/21;G11B5/84
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 代理人: 郝传鑫
地址: 香港新界沙田香港*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明提供一种光罩,包括透明基底及形成于该透明基底上的金属薄膜层。所述金属薄膜层上形成有透光的气垫面图像(ABS image)、光罩标志(reticle key)及机器视觉系统窗口(MVS window),其中,所述机器视觉系统窗口与所述气垫面图像重合。本发明同时提供一种利用上述光罩在磁头表面形成气垫面图案(ABS pattern)的方法。
搜索关键词: 一种 利用 磁头 表面 形成 气垫 图案 方法
【主权项】:
1.一种光罩(reticle),包括:透明基底(substrate)及形成于该透明基底上的金属薄膜层;所述金属薄膜层上形成有透光的气垫面图像(air bearing surface image,ABS image)、光罩标志(reticle key)及机器视觉系统窗口(machine vision window,MVS window);其中,所述机器视觉系统窗口与所述气垫面图像重合。
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