[发明专利]呋脲苄青霉素钠晶体及其合成方法无效
| 申请号： | 200610077595.6 | 申请日： | 2006-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1854140A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | 蒋征昊 | 申请（专利权）人： | 北京信汇科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D499/46 | 分类号： | C07D499/46 |
| 代理公司： | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 | 代理人： | 黄泽雄;邵毓琴 |
| 地址： | 100085北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及高纯度的稳定的呋脲苄青霉素钠晶体及其合成方法。该方法操作简单，生产周期短，有机溶剂用量少，实现了溶媒结晶，并且收率达到了90－95％。经高压液相色谱测定，本发明的呋脲苄青霉素钠晶体的纯度到达了91％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 呋脲苄 青霉素 晶体 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种结构式如下的呋脲苄青霉素钠晶体，![]()
该晶体具有如下X-射线粉末衍射图谱，该图谱是由λ＝1.5406铜靶穿过石墨单色仪而获得的： dI/I0 14.66-15.371 9.90-10.08 0.23-0.31 8.67-8.790.20-0.34 4.97-5.040.44-0.65 4.08-4.140.23-0.42其中d为晶面间距，I/I0为相对强度。
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