[发明专利]包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 200610077360.7 | 申请日： | 1998-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1966594A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·K·格鲁姆宾;克里斯托弗·C·斯特赖恩兹;埃里克·W·G·霍格伦 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/00 | 分类号： | C09G1/00;B44C1/22;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 包括能侵蚀钨的组合物和至少一种钨侵蚀抑制剂的化学机械抛光组合物和浆料，和使用其组合物和浆料抛光含钨基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 侵蚀 抑制剂 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光组合物，包括：能侵蚀钨的化合物；和至少一种钨侵蚀抑制剂，其中钨侵蚀抑制剂是(1)包括含氮官能基的化合物，该含氮官能团化合物为含氮的杂环、形成烷基铵离子的化合物、氨基烷基、氨基酸或其组合；或(2)包括至少一种选自含氮官能团杂环、硫化物、烷基铵离子、或一个化合物中各官能基混合物的化合物。，
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