[发明专利]具有微纹的磁头的制造方法有效
| 申请号： | 200610075072.8 | 申请日： | 2006-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101046969A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 方宏新;丁宇;马洪涛;上田国博 | 申请（专利权）人： | 新科实业有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/187 | 分类号： | G11B5/187;G11B5/60 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 香港新界沙田香港*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | 一种具有微纹(micro－texture)的磁头的制造方法，包括如下步骤：(1)提供由复数磁头构成的长形磁条，其中每个磁头包括一个空气支承面及设于其上的极尖区域(pole tip region)；(2)在所述每个磁头的极尖区域上形成第一保护膜；(3)蚀刻所述磁头的空气支承面而在其上形成凹凸相间的微纹(micro－texture)，所述极尖区域由于第一保护膜的保护而免于被蚀刻；(4)去除覆盖于所述磁头极尖区域上的第一保护膜；(5)在所述磁头的空气支承面上形成第二保护膜。该方法可使磁头的极尖区域在制造过程中不受影响，从而可保证磁头的读写性能，并保证可在磁头的空气支承面及其极尖区域上形成完整的保护膜，从而提高磁头的抗腐蚀性能。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 磁头 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有微纹(micro-texture)的磁头的制造方法，包括如下步骤：(1)提供由复数磁头构成的长形磁条，其中每个磁头包括一个空气支承面及设于其上的极尖区域(pole tip region)；(2)在所述每个磁头的极尖区域上形成第一保护膜；(3)蚀刻所述磁头的空气支承面而在其上形成凹凸相间的微纹(micro-texture)，所述极尖区域由于第一保护膜的保护而免于被蚀刻；(4)去除覆盖于所述磁头极尖区域上的第一保护膜；(5)在所述磁头的空气支承面上形成第二保护膜。
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