[发明专利]磷光膜、成像组件及检查方法无效
申请号: | 200610071889.8 | 申请日: | 2006-03-23 |
公开(公告)号: | CN1837954A | 公开(公告)日: | 2006-09-27 |
发明(设计)人: | V·马尼范南;C·布伊诺;S·J·杜克洛斯;S·J·斯拓洛萨;D·阿尔巴利;P·A·麦康尼利 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G03B42/02 | 分类号: | G03B42/02;G01N23/04;A61B6/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯;张志醒 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供一种适应性强的成像组件(20)。适应性强的成像组件(20)包括配置成接收入射辐射以及发出相应光信号的自立式磷光膜(10)。电子装置(12)耦合到自立式磷光膜(10)。电子装置(12)配置成接收来自自立式磷光膜(10)的光信号并且产生成像信号。还提供一种自立式磷光膜(10),它包括在聚硅氧烷粘合剂中散布的x射线磷光体颗粒。还提供一种用于检验构件的方法,包括使构件和自立式磷光膜受到辐射(22),采用自立式磷光膜(10)产生相应光信号(24),采用耦合到自立式磷光膜(10)的电子装置(12)接收光信号(26),以及采用电子装置(12)产生成像信号(28)。 | ||
搜索关键词: | 磷光 成像 组件 检查 方法 | ||
【主权项】:
1.一种适应性强的成像组件(20),包括:自立式磷光膜(10),配置成接收入射辐射以及发出多个相应的光信号,其中所述自立式磷光膜(10)包括在聚硅氧烷粘合剂中散布的多个x射线磷光体颗粒;以及电子装置(12),耦合到所述自立式磷光膜,其中所述电子装置配置成接收来自所述自立式磷光膜(10)的光信号,并且产生成像信号。
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