[发明专利]光刻装置、湿浸式投影装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610071533.4 | 申请日： | 2006-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1841208A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | J·－G·C·范德图恩;H·布特勒;H·H·M·科西;E·H·J·德拉贾;N·坦卡特;F·范德穆伦;M·J·H·弗兰坎;M·侯克斯;A·H·阿伦德斯;M·库帕卢斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;杨松龄 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，其包括保持基底的基底台和将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。该光刻装置还包括流体供给系统，用于在基底和投影系统的最后一个透镜元件之间提供流体，和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置。该位置控制装置配置成在被提供基底的位置量时，通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置，然后根据该期望位置定位流体供给系统。该位置量包括基底台的位置和/或旋转位置和/或基底高度的高度函数。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 湿浸式 投影 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；构造成在基底和投影系统之间提供流体的流体供给系统；和位置控制装置，用于控制该流体供给系统的位置，和接收作为输入的基底的位置量，其中该位置控制装置进一步配置成通过在基底的位置量上增加位置偏差来确定流体供给系统的期望位置；以及根据该期望位置定位该流体供给系统。
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