[发明专利]使用散射测量的光刻测量无效
| 申请号： | 200610071125.9 | 申请日： | 2006-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN1854899A | 公开（公告）日： | 2006-11-01 |
| 发明（设计）人： | K·范因根舍洛;M·H·F·詹森;A·G·M·基尔斯;H·范德兰;P·C·P·瓦洛彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：照明器，用于调节辐射束；以及支撑装置，用于保持图形化装置。图形化装置用于根据希望的图形将辐射束图形化。该光刻设备还包括：基板台，用于保持基板；以及投影系统，用于将图形化的辐射束投射到基板的目标部分上以在基板上形成图形化的图像。该光刻设备还包括：传感器，用于截取一部分辐射束，并测量穿过图形化装置的至少一部分的辐射束的透射。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 散射 测量 光刻 | ||
【主权项】：
1、一种使用模型来预测由光刻设备成像的特征的临界尺寸的方法，包括：将包括光瞳测量、投影系统像差、辐射剂量曲线、焦点曲线或者前述这些的任意组合在内的数据参数输入模型；输入与临界尺寸度量相关的图形化装置信息数据；输入与临界尺寸度量相关的工艺信息数据；以及通过使用Bossung曲线、图形化装置误差系数或者这两者的多个模拟和/或测量的数据，将所述输入数据转换成基板临界尺寸均匀度数据。
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