[发明专利]使用扫描激光SQUID显微镜的检查方法及装置无效
申请号: | 200610059148.8 | 申请日: | 2006-03-15 |
公开(公告)号: | CN1834675A | 公开(公告)日: | 2006-09-20 |
发明(设计)人: | 二川清 | 申请(专利权)人: | 恩益禧电子股份有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;G01R31/02;G01N27/82;H01L21/66 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 陆锦华;李亚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可确定故障部位的非破坏型的检查方法和装置。取得分别向第1、第2试料进行照射的激光进行扫描而得到的磁场分布的像(第1步骤),当磁场分布的像存在差时,在向第1、第2试料的预定部位照射激光的状态下,利用磁场传感器扫描第1、第2试料,根据由此得到的磁场分布取得各个电流像(第2步骤),取电流像间的差,可根据差像识别第1试料和所述第2试料的所述预定部位所相关的电流路径的差异。 | ||
搜索关键词: | 使用 扫描 激光 squid 显微镜 检查 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种检查方法,其特征在于,(a)使第1和第2试料的各试料在使激光和磁场检测器在相对于所述试料固定的状态下移动,由此扫描所述各试料,取得所述第1和第2试料的磁场分布的工序,和(b)向所述第1和第2试料的各试料的预先确定的预定部位固定地照射激光,并且所述磁场检测器进行扫描,由此取得所述第1和第2试料的磁场分布,所述固定地被激光照射的试料的所述预定部位从所述工序(a)中得到,与在所述第1和第2试料的磁场分布中确定了差的部位相对应,(c)根据在所述工序(b)中得到的所述第1和第2试料的磁场分布而得到电流像,取所述电流像之差,通过所述电流像的差像,可以识别出对于所述第1和第2试料所述预定部位所相关的电流路径的差异。
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