[发明专利]用于除去杂质的清洗液组合物及除去杂质的方法无效
| 申请号： | 200610058259.7 | 申请日： | 2006-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101029288A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | 李起桢 | 申请（专利权）人： | 李起元 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 姜兆元 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洗液组合物以及使用该组合物除去杂质的方法，其适于将残留在用于形成电子电路的基板及用于形成上述电子电路的制造装置的部件上的杂质除去。上述清洗液组合物包括：含有4～50重量％的从柠檬酸、柠檬酸盐、氟化物盐、氟酸、双氧水及过硫酸铵所构成的群组中所选择的二个化合物，以及剩余量的水(H2O)。具有此类成分的清洗液组合物，适用于除去在形成电子电路的基板表面上所残留杂质的工序，可使构成该杂质的物质再次附着于基板上等的污染最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 除去 杂质 清洗 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于除去杂质的清洗液组合物，其特征在于，包括：4～50重量％的从柠檬酸、柠檬酸盐、氟化物盐、氟酸、双氧水、及过硫酸铵所组成的群组中所选择的二个化合物，以及剩余量的水。
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