[发明专利]钕铁硼永磁材料光亮镀镍多种有机添加剂配伍工艺无效

专利信息
申请号: 200610053063.9 申请日: 2006-08-22
公开(公告)号: CN1928163A 公开(公告)日: 2007-03-14
发明(设计)人: 姚宇良;沈昊宇;牛玮 申请(专利权)人: 宁波科宁达工业有限公司;浙江大学宁波理工学院
主分类号: C25D3/12 分类号: C25D3/12;H01F1/09
代理公司: 宁波市天晟知识产权代理有限公司 代理人: 张文忠
地址: 315803浙江省宁波市北仑*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了钕铁硼永磁材料光亮镀镍多种有机添加剂配伍工艺,包括至少含有光亮剂和润湿剂的有机添加剂,光亮剂包括有初级光亮剂和次级光亮剂;初级光亮剂、次级光亮剂和润湿剂的种类和比例的优化与配伍镀层光亮度、结合力最佳,包括以下步骤:配制不含初级光亮剂和次级光亮剂的空白电镀液;在空白电镀液中加入初级光亮剂,保持其确定浓度的条件下加入不同浓度和种类的次级光亮剂和润湿剂;改变空白电镀液中的初级光亮剂的种类,保持其确定浓度的条件下加入不同浓度和种类的次级光亮剂和润湿剂;优化最佳次级光亮剂和润湿剂的种类和浓度;得到优化的各种添加剂的种类、浓度和比例;对添加剂浓度比变化而进行适时调整和补加确保工艺稳定。
搜索关键词: 钕铁硼 永磁 材料 光亮 多种 有机 添加剂 配伍 工艺
【主权项】:
1、钕铁硼永磁材料光亮镀镍多种有机添加剂配伍工艺,其特征是:包括至少含有光亮剂和润湿剂(C)的有机添加剂,所述的光亮剂包括有初级光亮剂(A)和次级光亮剂(B);所述的初级光亮剂(A)、次级光亮剂(B)和润湿剂(C)的种类和比例的优化与配伍包括以下步骤:步骤一是配制不含初级光亮剂(A)和次级光亮剂(B)的空白电镀液,该空白电镀液的各组分的浓度根据各不同的电镀镍的工艺要求而配制,保持与实际电镀液相近;步骤二是在所述的空白电镀液中加入初级光亮剂(A),保持其确定浓度的条件下加入不同浓度和种类的次级光亮剂(B)和润湿剂(C);优化最佳次级光亮剂(B)和润湿剂(C)的种类和浓度;步骤三是改变空白电镀液中的初级光亮剂(A)的种类,保持其确定浓度的条件下加入不同浓度和种类的次级光亮剂(B)和润湿剂(C);优化最佳次级光亮剂(B)和润湿剂(C)的种类和浓度;步骤四是得到优化的各种添加剂的种类、浓度和比例;步骤五是对添加剂浓度比变化而进行适时调整和补加确保工艺稳定。
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