[发明专利]显影滚筒及其制造方法无效
申请号: | 200610051443.9 | 申请日: | 2006-02-24 |
公开(公告)号: | CN1825215A | 公开(公告)日: | 2006-08-30 |
发明(设计)人: | 林昌毅;植村聪 | 申请(专利权)人: | 京瓷美达株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一个包含在显影装置(1)中的显影滚筒(20)与一个光电导体鼓(100)彼此位置靠近,或者相互接触。吸附在显影滚筒(20)表面上的调色剂通过静电力转移到光电导体鼓(100)上,从而形成静电潜像。显影滚筒(20)在其表面上具有一个显影套管(30)。在显影套管(30)的一个基底(31)的表面上,形成一个非电解的镀镍层(32)。此外,在镀镍层(32)的表面上,形成一个氧化镍涂层(33)。氧化镍涂层(33)对显影套管(30)的表面起到钝化作用,从而抑制了由于镀镍处理而导致的调色剂电荷逃逸的趋势,因此能够将调色剂电荷保持特性保持在适当的状态。 | ||
搜索关键词: | 显影 滚筒 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种显影滚筒,其中在一个显影套管的基底表面上形成一个镀镍层,并且其中在镀镍层的表面上形成一个氧化镍涂层。
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