[发明专利]一种用于制备纳米材料的模板及其制备和应用无效
| 申请号： | 200610050656.X | 申请日： | 2006-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1880516A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 郑华均;王伟;马淳安 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04;B82B3/00 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人： | 黄美娟;袁木棋 |
| 地址： | 310014*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制备纳米材料的模板及利用这种模板制备纳米材料的方法，所述的模板以高纯铝为材料，制法为：将铝片进行退火处理及电化学抛光处理后，在酸性介质中通过阳极氧化处理，在其表面制备出具有多孔结构的铝氧化物层，多孔结构的铝氧化物层包括多孔结构及构成多孔的阻挡层，再将已形成多孔结构的铝氧化物层的铝片浸入到除膜液中浸渍，以侵蚀除去多孔铝氧化物层，即可制成模板，所述的除膜剂为仅能溶解铝氧化物的溶液。本发明的铝基纳米点阵模板保持了阳极氧化铝模板的高度有序性，高密度及良好的化学稳定性等优点。利用这种模板采用铝基纳米点阵模板－磁控溅射技术来沉积制备纳米材料，本方法适应面广、操作简单、能规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 纳米 材料 模板 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备纳米材料的模板，所述的模板以高纯铝片为材料，其特征在于所述的模板的制备方法为：将铝片进行退火处理及电化学抛光处理后，在酸性介质中通过阳极氧化处理，在其表面制备出具有多孔结构的铝氧化物层，所述的多孔结构铝氧化物层包括多孔结构及形成多孔结构的阻挡层，再将已形成多孔结构的铝氧化物层的铝片浸入到除膜液中浸渍，以侵蚀除去多孔结构及形成多孔结构的阻挡层，在铝片表面上蚀刻出纳米点阵结构，即可制成铝基纳米点阵模板，所述的除膜液为仅能溶解铝氧化物的溶液。
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