[发明专利]用于抛光低介电材料的抛光液无效
| 申请号： | 200610030457.2 | 申请日： | 2006-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101130665A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;陈国栋;荆建芬;姚颖;宋成兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光低介电材料的抛光液，该抛光液包括磨料和水，其特征在于：还包括一种或多种金属螯合剂、唑类成膜剂和氧化剂。本发明的抛光液能在较低的压力下具有较高的低介电材料的去除速率以及对其它材料的合适的抛光选择比，抛光后的表面光洁度较好。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 低介电 材料 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光低介电材料的抛光液，该抛光液包括磨料和水，其特征在于：还包括一种或多种金属螯合剂、唑类成膜剂和氧化剂。
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