[发明专利]玻璃基片表面自组装硅烷稀土复合纳米膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种玻璃基片表面自组装硅烷稀土复合纳米膜的制备方法，首先对玻璃基片进行羟基化预处理，然后浸入γ－巯丙基三甲氧基硅烷溶液中，静置40～60分钟取出，清洗后在100～120℃下保温40～60分钟，在干燥器中冷却。再将基片浸入γ－甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷溶液中，静置5～15分钟取出，清洗后用氮气吹干置于一定浓度的硝酸中，在50℃～80℃下反应60分钟，取出后用去离子水超声清洗，最后将基片置入稀土溶液中组装12小时，用去离子水超声清洗，在120℃下保温120分钟，再在干燥器中冷却，即获得硅烷稀土复合纳米膜。本发明工艺简单，在玻璃基片表面制备的硅烷稀土复合纳米膜有明显减摩作用和抗磨损性能。

主权项

1、一种玻璃基片表面自组装硅烷稀土复合纳米膜的制备方法，其特征在于首先对玻璃基片进行羟基化预处理，将玻璃基片浸入H2SO4∶H2O2体积比为70∶30的Pirahan溶液中，于室温下处理60分钟，用去离子水超声清洗后，放在一个防尘装置内，在烘箱中干燥，然后将处理后的玻璃基片浸入配置好的γ-巯丙基三甲氧基硅烷溶液中，静置40～60分钟取出，分别用氯仿、丙酮、去离子水超声清洗，去除表面物理吸附的溶剂后，在100～120℃下保温40～60分钟，再在干燥器中冷却；再将玻璃基片浸入配置好的γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷溶液中，静置5～15分钟取出，分别用氯仿、丙酮、去离子水冲洗，去除表面物理吸附的溶剂后，用氮气吹干后置于质量浓度为30％～60％的硝酸中，在50℃～80℃下反应60分钟，取出后用去离子水超声清洗，最后将玻璃基片置入配置好的稀土溶液中，组装12小时后取出，用去离子水超声清洗，在120℃下保温120分钟，再在干燥器中冷却，即获得硅烷稀土复合纳米膜；其中，所述γ-巯丙基三甲氧基硅烷溶液的摩尔浓度为0.1～1.2mmol/L，溶剂为苯；所述γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷溶液的摩尔浓度为0.1～1.2mmol/L，溶剂为苯；所述稀土溶液的组分重量百分比为：乙醇含量：60％～80％，稀土化合物：4.5％～7％，乙二胺四乙酸：1％～4％，氯化铵：2％～5％，尿素：15％～25％，硝酸：0.5％～1.5％。