[发明专利]检测层间膜非正常研磨的装置及其实现方法有效
| 申请号： | 200610028679.0 | 申请日： | 2006-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101100046A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 王海军;杨欣;谢煊;程晓华 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B49/00 | 分类号： | B24B49/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种检测层间膜非正常研磨的装置，其包括在研磨机台下有一透明容器，该透明容器接收研磨产物和化学试剂，在该透明容器的外面器壁上有一传感器和一报警装置。本发明还公开了上述检测层间膜非正常研磨的装置的实现方法。本发明利用金属和一些化学试剂产生颜色变化的化学特性，通过传感器和报警装置及时发现研磨中金属出现并及时发现并阻止层间膜研磨工艺的非正常研磨，避免更大的损失。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 层间膜非 正常 研磨 装置 及其 实现 方法 | ||
【主权项】：
1、一种检测层间膜非正常研磨的装置，其特征在于，在研磨机台下有一透明容器，该透明容器接收研磨产物和化学试剂，在该透明容器的外面器壁上有一传感器和一报警装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司，未经上海华虹NEC电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610028679.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
