[发明专利]浸没式光刻机浸液流场维持系统

摘要

本发明提供一种浸没式光刻机所使用的浸液流场维持系统，该光刻机包括投影物镜、硅片台，以及布置在投影物镜周围的浸液供给系统，浸液供给系统在投影物镜下方形成一浸液流场。该浸液维持系统包括水平导轨、通过悬臂吊接于水平导轨的平板、附着在水平导轨上的水平方向驱动装置，以及附着在悬臂上的垂直方向驱动装置。在光刻机撤下硅片，硅片台从投影物镜正下方的曝光区域撤出时，平板与硅片台连接并同步运动，浸没流场由硅片台转移到平板上；在光刻机装上硅片，硅片台从曝光区域外围进入曝光区域时，平板与硅片台连接并同步运动，浸液流场从平板转移到硅片台上。该系统避免了光刻机在硅片台离开曝光位置时撤销流场，在硅片台进入曝光位置时重新建立流场的过程，节约了大量时间，提高光刻机产率。

主权项

1.一种浸没式光刻机的浸液流场维持系统，该光刻机包括投影物镜、至少一用以承载硅片的硅片台，以及一分布在投影物镜周围的浸液供给系统，浸液供给系统在投影物镜下方形成一浸液流场；其特征在于：该浸液维持系统包括水平导轨、与水平导轨滑块相连的平板，以及驱动平板运动的驱动装置；在光刻机撤下硅片，硅片台从投影物镜正下方的曝光区域撤出时，平板与硅片台连接并同步运动，浸没流场由硅片台转移到平板上；在光刻机装上硅片，硅片台从曝光区域外围进入曝光区域时，平板与硅片台连接并同步运动，浸液流场从平板转移到硅片台上。