[发明专利]玻璃基片表面氨基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法无效
申请号: | 200610024979.1 | 申请日: | 2006-03-23 |
公开(公告)号: | CN1830858A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 程先华;顾勤林;白涛;蒋喆 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42;C03C17/30 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 毛翠莹 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种玻璃基片表面氨基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法,采用表面经过羟基化处理的玻璃基片作为基底材料,将基片浸入氨基硅烷溶液中,在基片表面组装氨基硅烷薄膜,最后将表面附有氨基硅烷薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素、硝酸配制的稀土自组装溶液中,获得氨基硅烷-稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单,在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩、耐磨和抗粘着作用。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 表面 氨基 硅烷 稀土 纳米 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种玻璃基片表面氨基硅烷—稀土纳米薄膜的制备方法,其特征在于将玻璃基片置于体积比98%浓硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室温下处理1小时,再用去离子水超声清洗20分钟,放在一个防尘装置内在烘箱中干燥,将处理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,静置12小时,取出后分别用无水甲醇、去离子水冲洗,然后用氮气吹干置于配制好的稀土自组装溶液中,在80℃下进行组装12小时,即获得氨基硅烷—稀土自组装纳米薄膜;其中,所述氨基硅烷溶液中氨基硅烷的的体积百分比为0.5~2%,溶剂为无水甲醇;所述稀土自组装溶液的组分重量百分比为:乙醇60~80%,稀土化合物4.5~7%,乙二胺四乙酸1~4%,氯化铵2~5%,尿素12~25%,硝酸0.5~1.5%。
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