[发明专利]氧化锡多孔薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化锡多孔薄膜及其制备方法，属于一种功能材料。本发明需要解决的技术问题是提供一种氧化锡多孔薄膜及其制备方法，用这种方法所制成的氧化锡多孔薄膜，其孔隙率高，比表面积大。本发明的技术方案要点是，氧化锡多孔薄膜，孔径为0.01－1000μm，孔隙率为20％－70％，比表面积为10m²/g－150m²/g。氧化锡多孔薄膜的制备方法，将锡源和有机酸置于反应器中在100－280℃在下搅拌溶解得到锡的有机物前驱体，将上述前驱体放入马弗炉内在大于300℃条件下控温烧结，制成氧化锡多孔薄膜。有机酸为柠檬酸或者乌头酸。锡源为金属锡、二氯化锡、四氯化锡中的任一种。本发明可用于气敏元件、锂电池阴极材料、催化、分离吸附、光学及环境污染治理等领域。

主权项

1、氧化锡多孔薄膜，其特征在于：孔径为0.01-1000μm，孔隙率为20％-70％，比表面积为10m2/g-150m2/g。