[发明专利]一种基于铝阳极氧化膜的复型纳米孔掩模板及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 200610015041.3 | 申请日： | 2006-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN101117726A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 王森 | 申请（专利权）人： | 国家纳米技术与工程研究院 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04 |
| 代理公司： | 国嘉律师事务所 | 代理人： | 卢枫 |
| 地址： | 300457天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 利用真空镀膜技术在多孔氧化铝膜表面沉积薄膜，得到了一种复型纳米孔薄膜。这种复型纳米孔薄膜具有与铝阳极氧化膜相同密度及排列的纳米孔阵列。用化学腐蚀法去除氧化铝衬底后，所得纳米孔薄膜可用作掩模板，与离子刻蚀或真空薄膜沉积等技术相结合，可实现多种纳米阵列的制备及多孔氧化铝图形的复制转移。与传统的超薄多孔氧化铝掩模板相比，这种复型掩模板的制备更为简单，并可选用多种可真空溅射或蒸发的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 阳极 氧化 纳米 模板 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种基于多孔铝阳极氧化膜的复型纳米孔掩模板，其特征在于它具有与铝阳极氧化膜相同密度及排列的纳米孔阵列，孔密度范围在109～1012 cm-2。
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