[发明专利]蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法无效
| 申请号： | 200610013982.3 | 申请日： | 2006-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1857865A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;牛新环;檀柏梅;刘钠 | 申请（专利权）人： | 天津晶岭微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/16 | 分类号： | B24B9/16;C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 闫俊芬 |
| 地址： | 300384天津市高技*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学作用强、粗糙度低、无划伤，且成本低的蓝宝石衬底材料表面粗糙度的控制方法。本发明选用碱性介质、粒径15～40nmSiO2磨料、pH值11～13.5、FA/O等型表面活性剂来制备抛光液。用两步抛光法，在同一台抛光机上第一步粗抛：在40～60℃温度、40～120rpm转速、0.10～0.20MPa、100～5000ml/min流量下可实现高去除，第二步采用流量800g～5Kg/min、温度20～30℃、压力0.05～0.1Mpa条件下进行抛光1～10min；大流量、低温、低压下精抛可实现低粗糙的表面控制要求。 | ||
| 搜索关键词： | 蓝宝石 衬底 材料 表面 粗糙 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.蓝宝石衬底材料抛光表面粗糙度的控制方法，其特征是，在同一台抛光机上使用二步抛光法，包括以下步骤：(1)第一步使用粗抛液进行抛光：a.将粒径15～40nm的SiO2磨料用不同倍数的去离子水稀释，去离子水含量0～98％；b.用碱性调节剂调整上述溶液使pH值在11～13.5范围内；c.在调整完pH后，边搅拌边加入1.5～20％的醚醇类活性剂；d.使用上述粗抛液在40～60℃温度、40～120rpm转速、0.10～0.20MPa、100～5000ml/min流量的抛光工艺条件下，在抛光机上对蓝宝石衬底材料进行抛光0.5～3h；(2)第二步使用精抛液进行抛光：a.选用粒径15～25nm、浓度1～50％、硬度低6～7的SiO2磨料；b.用碱性调节剂调pH值在9～12范围内；c.在调整完pH后，加入FA/O表面活性剂1.5～20％；d.使用上述精抛液在工艺条件为：流量800g～5Kg/min、温度20～30℃、压力0.05～0.1Mpa条件下进行抛光1～10min。
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