[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 200610007667.X | 申请日： | 2006-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN1840740A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 佐藤亮;南雅人 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23F4/04 | 分类号： | C23F4/04;H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，在向上部电极施加300W以上1000W以下的频率比第一频率电力低的第二高频电力后，保持1～3秒的时间差，施加第一频率电力，先由第二高频电力生成鞘层，而使得即使施加第一高频电力，也可以阻止等离子体进入喷淋头的气体孔中，从而抑制电弧放电。其特征在于：在等离子体处理装置(10)中，在处理室(12)内相对设置上部电极(13)和下部电极(14)，先向上部电极(13)施加来自第二高频电源的频率比第一频率电力低的第二高频电力，然后，保持1～3秒的时间差，重叠施加第一高频电力。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其特征在于：在处理室内相对设置有第一电极和第二电极，通过第一匹配电路和第二匹配电路向所述第一电极施加来自高频电源的第一高频电力和来自频率比该第一高频电力低的高频电源的第二高频电力，并且使第二电极接地，其中，向所述第一高频电力重叠施加所述第二高频电力。
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