[发明专利]面形状形成方法及其装置,磁头飞行面形成方法及其装置无效
| 申请号： | 200610005991.8 | 申请日： | 2006-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1822109A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 伊藤善映;中田刚;上田国博 | 申请（专利权）人： | 新科实业有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/60 | 分类号： | G11B5/60;G11B5/127 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 香港新界沙田香港*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | 本发明提供的面形状形成装置包括：对蚀刻对象(1)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成装置、以及对形成有保护层的蚀刻对象(1)的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻装置，其中，保护层形成装置包括：在蚀刻对象的规定表面上附着保护层材料的保护层附着装置，以及对该被附着的保护层材料照射激光束并去除一部分保护层材料从而修整成规定形状的激光照射装置(2)。本发明的面形状形成装置可短时间、低成本的形成蚀刻对象的面形状，并实现该形成的面形状的高精度化。 | ||
| 搜索关键词： | 形状 形成 方法 及其 装置 磁头 飞行 | ||
【主权项】：
1.一种面形状形成方法，包括：对蚀刻对象的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成工序、以及对所述形成有保护层的蚀刻对象的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻工序，其特征在于：所述保护层形成工序包括：对所述蚀刻对象的规定表面附着保护层材料的保护层附着工序，以及对该被附着的保护层材料照射激光束去除一部分保护层材料从而修整为所述规定形状的修整工序。
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