[发明专利]膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备无效
| 申请号： | 200610004893.2 | 申请日： | 2006-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN1808248A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 蛭间敬 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;B05D1/00;G02F1/133 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备，该膜形成方法，包括：涂敷工序，喷出液状体并在基板上涂敷；干燥工序，在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40％之前，利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 光电 装置 制造 电子设备 | ||
【主权项】：
1、一种膜形成方法，其中，包括：涂敷工序，喷出液状体并在基板上涂敷；干燥工序，在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40％之前，利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥。
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