[发明专利]耐阻滞性良好的清洁片和使用它的清洁方法无效
| 申请号： | 200610004495.0 | 申请日： | 2006-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN1831035A | 公开（公告）日： | 2006-09-13 |
| 发明（设计）人： | 须美崇二;木村达也 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/24 | 分类号： | C08J5/24;C08J7/04;B41F35/00;B41M1/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 包于俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明所述的清洁片是对含有树脂构成的单层片的至少一面照射1～50Mrad的电子射线而得到的清洁片，其特征在于，(i)溶剂吸收量、(ii)存储弹性模量具有特定的值。采用本发明的清洁片，可以不对清洁的对象造成损伤及污染，可靠有效地进行对象的清洁。另外，采用本发明的清洁片，可以有效地防止单独卷曲成筒状时片之间的阻滞，使筒到片的展开更顺畅地进行，进一步提高筒的形状下的处理的简便程度和操作性。 | ||
| 搜索关键词： | 阻滞 良好 清洁 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.清洁片，它是对含有树脂构成的单层片的至少一面照射1～50Mrad的电子射线而得到的清洁片，其特征在于，具有下述物性(i)和(ii)：(i)在二甘醇单丁醚乙酸酯中浸渍1秒钟后的溶剂吸收量为5g/m2以上；(ii)23℃、11Hz下测定的存储弹性模量在5.00×106～3.00×108Pa的范围内。
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