[发明专利]静电潜像显影用调色剂及其制造方法、静电潜像显影剂、成像方法和成像装置有效
| 申请号： | 200610000364.5 | 申请日： | 2006-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1892448A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 饭岛正和;石山孝雄;诹访部正明;角仓康夫;武道男;中沢博 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G9/08 | 分类号： | G03G9/08;G03G13/00;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了静电潜像显影用调色剂及其制造方法，所述调色剂至少包含粘合剂树脂、着色剂、防粘剂和接枝聚合物，所述接枝聚合物由树脂基体与大分子单体接枝聚合而制得，所述大分子单体包含选自由以下基团组成的组中的至少一种基团：羟基、羟烷基和吡咯烷酮基。本发明还提供了使用所述的调色剂的静电潜像显影剂、使用所述调色剂的成像方法和成像装置。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 显影 调色 及其 制造 方法 显影剂 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种静电潜像显影用调色剂，所述调色剂至少包含粘合剂树脂、着色剂、防粘剂和接枝聚合物，所述接枝聚合物由树脂基体与大分子单体接枝聚合而制得，所述大分子单体包含选自由以下基团组成的组中的至少一种基团：羟基、羟烷基和吡咯烷酮基。
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