[发明专利]用于氢分离的具有长期稳定性能的复合钯膜无效

专利信息
申请号: 200580052400.6 申请日: 2005-12-23
公开(公告)号: CN101351258A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: T·H·范德斯普尔特;J·亚马尼斯;C·沃尔克;Z·达达斯;Y·佘 申请(专利权)人: UTC电力公司
主分类号: B01D53/22 分类号: B01D53/22
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘锴;韦欣华
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 复合H2分离钯膜(10)的相邻的多孔金属基底(12)、氧化物(14)和Pd金属膜(16)层材料具有各自的热膨胀(TEC),其相互差别很小,以抵抗由于热循环的TEC不匹配产生的失效。相邻层的材料之间小于3μm/(m.k)的TEC差值(20,22)通过446不锈钢基底、4wt%氧化钇-氧化锆氧化层和77wt%Pd-23wt%Ag或60wt%Pd-40wt%Cu膜的复合系统获得,所述446不锈钢基质、4wt%氧化钇-氧化锆氧化层和77wt%Pd-23wt%Ag或60wt%Pd-40wt%Cu膜的TECs分别为11,11和13.9μm/(m.k)。氧化物中间层包含的颗粒形成多孔,具有平均孔径小于约0.1微米,厚度小于5微米,优选小于约3微米。
搜索关键词: 用于 分离 具有 长期 稳定 性能 复合
【主权项】:
1、一种复合H2分离膜(10),依次包括:具有第一热膨胀系数的多孔金属基底(12);具有第二热膨胀系数的氧化物中间层(14),其中中间层覆盖在多孔金属基底(12)上;具有第三膨胀系数的Pd合金膜(16),其中Pd合金膜覆盖在中间层(14)上;其中选择多孔金属基底、中间层和Pd合金膜以使它们各自的所述第一、第二和第三热膨胀系数足够类似,从而能够抵抗由于热循环过程中复合H2分离膜内的热膨胀系数的不匹配产生的失效。
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