[发明专利]探测在纺织材料中的杂质有效
| 申请号： | 200580051140.0 | 申请日： | 2005-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN101228434A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | S·N·拉马钱德兰;纳拉亚纳斯瓦米·卡维塔;巴拉苏布拉玛尼姆·沙姆格·桑德拉姆 | 申请（专利权）人： | 第一伊沃尔维克斯私人有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/89 | 分类号： | G01N21/89;D01H13/22 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 霍育栋;颜涛 |
| 地址： | 印度哥*** | 国省代码： | 印度;IN |
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| 摘要： | 一种用于探测在束状材料中杂质的设备，包括用于发射可见光的第一光源(2)、用于在红外光谱辐射的第二光源(3)、对从纺织材料(1、11)反射的可见光敏感并用于产生对应的第一探测器信号的第一探测器(4)以及对在从纺织材料(1、11)反射的红外光谱附近的辐射敏感并用于产生对应的第二探测器信号的第二探测器(5)。光源(2、3)和探测器(4、5)布置成照射和观察纱线(1)相同区段，而信号处理区段(7)用于确定比值和两个探测器信号的加权差值，并当所述差值超过阈值时输出指示污染物存在的信号。 | ||
| 搜索关键词： | 探测 纺织 材料 中的 杂质 | ||
【主权项】：
1.一种用于探测在纺织材料中杂质的设备，该纺织材料特别是例如纱线(1)的束状材料或者纺织材料(11)碎片流，该设备包括用于发射可见光的第一光源(2)、用于在红外光谱辐射的第二光源(3)、对从纺织材料反射的可见光敏感并用于产生对应的第一探测器信号的第一探测器(4)，以及对在从纺织材料反射的红外光谱中的辐射敏感并用于产生对应的第二探测器信号的第二探测器(5)，光源(2、3)和探测器(4、5)布置成照射和观察纺织材料相同区段，而信号处理区段(7)用于确定两个探测器信号的加权差值，并当所述差值超过阈值时输出指示污染物存在的信号。
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