[发明专利]磁记录介质、其制造方法以及磁记录和再现装置无效
| 申请号： | 200580048297.8 | 申请日： | 2005-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101120403A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 大泽弘;清水谦治 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;G11B5/73;G11B5/64;G11B5/851;G11B5/65 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在能够获得更高记录密度的磁记录介质中，提供一种具有更高矫顽磁力和更低噪音的磁记录介质及其制造方法、以及磁记录和再现装置。该磁记录介质的特征在于，至少包括：非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层，它们按照递升的顺序层叠在非磁性基底上，以及所述非磁性内涂层的至少一层由WV型多组分体心立方晶体合金构成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，至少包括：非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层，它们按照递升的顺序层叠在非磁性基底上，其中所述非磁性内涂层的至少一层由多组分体心立方晶体合金构成，该合金包括：由Cr和V构成的A组元素中的至少一种元素、由Mo和W构成的B组元素中的至少一种元素、以及由Nb、Ta和Ti构成的C组元素中的至少一种元素。
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