[发明专利]金刚烷衍生物、其制造方法以及光致抗蚀剂用感光材料无效
| 申请号： | 200580032421.1 | 申请日： | 2005-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101027281A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | 畠山直良;田中慎司 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C07C323/12 | 分类号： | C07C323/12;C07C69/013;C07C69/54;C07C309/71;C08F20/28;C08F20/38;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以作为光刻领域中的感光性树脂等功能性树脂的单体使用的新型金刚烷衍生物及其制造方法。它是具有下述通式(I－a)所示结构的金刚烷衍生物以及使用对应的金刚烷衍生物作为原料而制造上述金刚烷衍生物的方法。式中，R1表示H、CH3或CF3，R2a表示具有杂原子的包括C(碳原子数)1～30烷基、C3～30环烷基或C6～30芳基的烃基，X1和X2各自独立地表示O或S，Y是C1～10烷基、卤原子、OH、SH或由2个Y一起形成的＝O或＝S。k是0～14的整数，m及n是0～2的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚 衍生物 制造 方法 以及 光致抗蚀剂用 感光材料 | ||
【主权项】：
1.金刚烷衍生物，其特征是具有下述通式(I-a)所示的结构，![]()
式中，R1表示氢原子、甲基或三氟甲基，R2a表示具有杂原子的包括碳原子数为1～30的烷基、碳原子数为3～30的环烷基或碳原子数为6～30的芳基的烃基，X1和X2各自独立地表示氧原子或硫原子，Y是碳原子数为1～10的烷基、卤原子、羟基、巯基或由2个Y一起形成的＝O或＝S，多个Y可以相同，也可以不同，k表示0～14的整数，m及n各自独立地表示0～2的整数。
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