[发明专利]辐射测量设备、辐射控制系统及辐射测量方法有效

专利信息
申请号: 200580031127.9 申请日: 2005-09-06
公开(公告)号: CN101023329A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: C·J·默滕斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01J1/04 分类号: G01J1/04;G01J5/12;G01J5/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王庆海;陈景峻
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明提供一种用于测量辐射的设备,以及用于使用该设备进行测量的方法,还有使用该设备的可控照明系统。该设备(1’)具有带有传感器(5,5’)、辐射进入开口(4’)的侧壁(2)和可选的顶壁(9)及底部帽(10)。传感器仅仅对在例如环(12a-12b)的反射区域处反射的间接辐射敏感。该设备对灰尘沉积不敏感,因为大多数灰尘被侧壁(2)阻挡,同时任意其它灰尘将通过传感器表面和平行于此的空气流上的反射区域,没有任何灰尘或污物的沉积。因此,传感器将给出更可靠的测量,即使在多尘环境中。该方法包括相对于将被测量的光线和可能的空气流定向该设备。该可控照明系统包括使用该设备测量亮度级,以及具有基于这些测量值控制一盏或多盏灯的控制单元。
搜索关键词: 辐射 测量 设备 控制系统 测量方法
【主权项】:
1、一种用于测量辐射的设备(1;1’;20;51),包括壳体和对所述辐射敏感的传感器(5,5’;58),该壳体具有辐射进入开口(4;4’)且包括圆周形侧壁(2),该圆周形侧壁(2)围绕中空的内部空间(22),并且该圆周形侧壁(2)在面向内部空间(22)的内侧(3)的至少是反射区域(23)上对所述辐射反射,其中相关于所述侧壁(2)布置传感器(5,5’;58),使辐射进入开口(4;4’)位于所述传感器(5,5’;58)的视场之外。
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