[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法有效

专利信息
申请号: 200580028744.3 申请日: 2005-08-26
公开(公告)号: CN101010736A 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 町田裕之;会田克昭;羽根田和幸 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G11B5/73;B24B37/04
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;李峥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种磁盘玻璃基底,其能够在磁盘制造过程中防止出现灰尘以及颗粒粘附到磁盘表面,并涉及一种制造方法和一种磁盘。一种用于磁盘的玻璃基底具有以下结构,其中在主表面的圆周边缘部分附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时具有以下特征:外周缘部分的滑雪跳跃值不大于0μm;外周缘部分的滚降值是-0.2至0.0μm;以及外周缘部分的dub-off值是0至120;该玻璃基底具有在主表面(数据面)和外周缘表面(竖直表面)之间的斜面,并且具有在玻璃基底的数据面和斜面之间的曲率半径为0.013至0.080mm的R表面。
搜索关键词: 磁盘 基底 以及 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于磁盘的玻璃基底,其特征在于在主表面的圆周边缘部分的附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时具有以下特征:外周缘部分的滑雪跳跃值不大于0μm;外周缘部分的滚降值是-0.2至0.0μm;以及外周缘部分的dub-off值是0至120;并且所述玻璃基底具有在所述主表面(数据面)和外周缘表面(竖直表面)之间的斜面,并且具有在所述玻璃基底的所述数据面和所述斜面之间的曲率半径为0.013至0.080mm的R表面。
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