[发明专利]透光性电磁波屏蔽膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200580025044.9 | 申请日： | 2005-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101002519A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木博友;西樱量 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;B32B3/24;B32B15/01;G09F9/00;H01J11/02 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈曦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 作为在载体上形成网状的金属银部分的导电性银薄膜的一种透光性电磁波屏蔽膜，其形成网状的上述金属银部分，线条宽度在18μm以下，开口率在85％以上，含有80～100wt％的Ag，而且其表面电阻值在5Ω/sq以下。此透光性电磁波屏蔽膜在具有高的电磁波屏蔽性能和高的透明度的同时，而且具有网状部分是黑色的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 透光 电磁波 屏蔽 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透光性电磁波屏蔽膜，该屏蔽膜是在载体上形成网状的金属银部分的导电性银薄膜，其特征在于：形成网状的所述金属银部分，其线条宽度在18μm以下，开口率在85％以上，含有80～100wt％的Ag，而且表面电阻值在5Ω/sq以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580025044.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：建筑机械的隔热结构
- 下一篇：功率电平调整装置及功率电平调整方法
