[发明专利]具有清洁装置的光学系统有效
| 申请号： | 200580024824.1 | 申请日： | 2005-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1989458A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | P·辛克;G·H·德拉 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉;黄力行 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于光学系统并且特别是用于设计为用于EUV辐射的光学系统的清洁装置。该清洁装置具有用于反应气体(29)的气体入口(28)。通过反应气体分离已经沉积在光学元件(110)的表面上的污染物(23)。还提供了优选地与要清洁的表面相对地布置的吸气剂表面(32)，通过吸气剂表面(32)吸收从这些表面分离的污染物。此吸收可以由于凝结在吸气剂表面上并且也可以通过化学反应发生。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 清洁 装置 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种特别是用于EUV辐射的光学系统(100)，其具有通过光学元件(110，113)限定的束路径(118)并且具有包括反应气体入口(28)和离开束路径(118)布置的至少一个吸气剂表面(32)的清洁装置。
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