[发明专利]形成纳米团簇电荷存储器件的方法有效
| 申请号： | 200580020970.7 | 申请日： | 2005-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN101006568A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·F·施泰梅尔 | 申请（专利权）人： | 飞思卡尔半导体公司 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L21/8234 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 穆德骏;黄启行 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在一个实施例中，提供了一种形成纳米团簇电荷存储器件的方法。半导体器件(10)的第一区域(26和30)被确认用于安置一个或多个非电荷存储器件。半导体器件的第二区域(28)被确认用于安置一个或多个电荷存储器件。在半导体器件的第一区域(26和30)中形成将用作一个或多个非电荷存储器件的栅绝缘体的栅氧化物(22)，并且随后在半导体器件的第二区域(28)中形成纳米团簇电荷存储层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 纳米 电荷 存储 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成纳米团簇电荷存储器件的方法，包括：将半导体器件的第一区域确认用于安置一个或多个非电荷存储器件；将半导体器件的第二区域确认用于安置一个或多个电荷存储器件；在半导体器件的第一区域中形成将用作一个或多个非电荷存储器件的栅绝缘体的栅氧化物；并且随后在半导体器件的第二区域中形成纳米团簇电荷存储层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于飞思卡尔半导体公司，未经飞思卡尔半导体公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580020970.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
