[发明专利]影响传感器上碳黑沉积的方法有效

专利信息
申请号: 200580019808.3 申请日: 2005-04-15
公开(公告)号: CN1969179A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 弗兰克·施内尔;卢茨·多夫米勒;拉尔夫·施密特;扎比内·勒施;赫尔穆特·马克思;亨里克·席滕黑尔姆 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G01N15/06 分类号: G01N15/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 曾立
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及用于控制传感器上的碳黑颗粒沉积的方法。设有一个传感器元件(1),该传感器元件具有一个第一电极(3)及一个第二电极(4)。在该传感器元件上可施加不同的测量电压U1及U2。在一个第一时间间隔t1期间,传感器元件(1)可用较高的电压U1工作,直至传感器元件(1)的一个触发阈值AP被超过,而在第二时间间隔t2期间,该传感器元件可用与所述较高电压U1不同的电压U2工作,该电压U2低于电压U1
搜索关键词: 影响 传感器 碳黑 沉积 方法
【主权项】:
1.用于控制传感器元件(1)上颗粒沉积的方法,该传感器元件具有一个第一电极(3)及一个另外的电极(4)并且在该传感器元件上在电压端子(2)上可施加一个第一电压U1及一个第二电压U2,其特征在于:传感器元件(1)在第一时间间隔t1期间可用较高电压U1 工作,并且在传感器元件(1)的一个触发阈值AP被超过后,该传感器元件可用低于所述较高电压U1的较低电压U2工作。
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