[发明专利]微通道装置中修补的均匀涂层无效
申请号: | 200580016106.X | 申请日: | 2005-03-23 |
公开(公告)号: | CN1956777A | 公开(公告)日: | 2007-05-02 |
发明(设计)人: | A·L·同克维齐;B·L·杨;T·马扎内克;F·P·戴利;S·P·费茨杰拉尔德;R·阿罗拉;邱东明;杨斌;S·T·佩里;K·贾罗斯;P·W·尼格尔;D·J·赫斯;R·塔哈;R·隆;J·马可;T·尤斯查克;J·J·拉姆勒;M·马齐安多 | 申请(专利权)人: | 维罗西股份有限公司 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00;C23C16/04;B01J37/02;B01J35/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 对微通道装置中的内部微通道进行涂敷。在装置组装或制造后在内部微通道上施涂这些均匀的涂层。使在微通道长度、弯角和/或微通道阵列的全部微通道上的涂层均匀。还描述了修整在微通道施加修补基面涂层的技术。 | ||
搜索关键词: | 通道 装置 修补 均匀 涂层 | ||
【主权项】:
1.微通道装置,包括:包括微通道壁的内部微通道;沿微通道壁的至少1厘米的相邻长度的后组装的相邻涂层;其中,后组装的相邻涂层有至少1厘米的相邻长度,按垂直于微通道长度并在远离该壁的涂层生长的方向上测定,其平均厚度至少为5微米,其中,涂层相邻长度的至少90%在平均厚度的+/-20%范围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于维罗西股份有限公司,未经维罗西股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580016106.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种绿色果蔬营养米
- 下一篇:治疗扁桃体炎的消炎软膏贴剂