[发明专利]微通道装置中修补的均匀涂层无效

专利信息
申请号: 200580016106.X 申请日: 2005-03-23
公开(公告)号: CN1956777A 公开(公告)日: 2007-05-02
发明(设计)人: A·L·同克维齐;B·L·杨;T·马扎内克;F·P·戴利;S·P·费茨杰拉尔德;R·阿罗拉;邱东明;杨斌;S·T·佩里;K·贾罗斯;P·W·尼格尔;D·J·赫斯;R·塔哈;R·隆;J·马可;T·尤斯查克;J·J·拉姆勒;M·马齐安多 申请(专利权)人: 维罗西股份有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;C23C16/04;B01J37/02;B01J35/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 郭辉
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 对微通道装置中的内部微通道进行涂敷。在装置组装或制造后在内部微通道上施涂这些均匀的涂层。使在微通道长度、弯角和/或微通道阵列的全部微通道上的涂层均匀。还描述了修整在微通道施加修补基面涂层的技术。
搜索关键词: 通道 装置 修补 均匀 涂层
【主权项】:
1.微通道装置,包括:包括微通道壁的内部微通道;沿微通道壁的至少1厘米的相邻长度的后组装的相邻涂层;其中,后组装的相邻涂层有至少1厘米的相邻长度,按垂直于微通道长度并在远离该壁的涂层生长的方向上测定,其平均厚度至少为5微米,其中,涂层相邻长度的至少90%在平均厚度的+/-20%范围。
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