[发明专利]基板拱顶无效
申请号: | 200580013199.0 | 申请日: | 2005-01-24 |
公开(公告)号: | CN1977066A | 公开(公告)日: | 2007-06-06 |
发明(设计)人: | 泷本昌行;小室弘之;阿部辰弥;布施丰;青名端一仁 | 申请(专利权)人: | 株式会社昭和真空 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 田军锋;王爱华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 抑制因在基板拱顶内成膜过程中的热膨胀和转动而引起的离心力,使配置在基板拱顶上的基板上的膜厚分布精度下降。在包括真空槽和搭载了成膜基板并与真空槽底部相向设置的基板拱顶的真空装置中,形成由钛或钛合金构成的材料的基板拱顶。 | ||
搜索关键词: | 拱顶 | ||
【主权项】:
1.一种真空装置,包括真空槽以及搭载了成膜基板并与该真空槽底部相向配置的基板拱顶,其特征在于:形成该基板拱顶的材料的热膨胀系数小于17.3×10-6。
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