[实用新型]大功率溅射镀膜源无效
| 申请号： | 200520055856.5 | 申请日： | 2005-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN2808932Y | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 陈海峰 | 申请（专利权）人： | 深圳南玻南星玻璃加工有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市中知专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王雄杰 |
| 地址： | 518067广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种大功率溅射镀膜源，一内装磁体的可旋转靶筒安置于真空室，一筒型旋转头连接可旋转靶筒并置于真空室外，一使旋转头在旋转中仍能与导电环保持良好接触的弹簧将导电环与旋转头的一个外环相压紧，导电环与电极相连。由于本实用新型采用了良好的绝缘方式和材料，压紧式导电环，使得绝缘良好，大电流导电非常可靠，靶材在溅射时由电机带动旋转，且通以冷却介质，冷却良好，本镀膜源可以运行在大功率下(100KW以上)，靶的尺寸可以很大，极大地提高了镀膜的生产效率，适合于大规模工业化的真空镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 大功率 溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
1.一种大功率溅射镀膜源，一内装磁体的可旋转靶筒安置于真空室，一筒型旋转头连接可旋转靶筒并置于真空室外，其特征在于：一使旋转头在旋转中仍能与导电环保持良好接触的弹簧将导电环与旋转头的一个外环相压紧，导电环与电极相连。
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