[实用新型]电感耦合等离子体装置无效
| 申请号： | 200520001643.4 | 申请日： | 2005-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN2785310Y | 公开（公告）日： | 2006-05-31 |
| 发明（设计）人： | 申浩南 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/30 | 分类号： | H05H1/30;H05H1/26 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑立明 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型所述的电感耦合等离子体装置由电感耦合线圈、上盖、反应腔室与进气装置组成，进气装置包括至少两路进气气路。从两路进气气路的出气口进入反应腔室的工艺气体在反应腔室中干涉。两路气体喷出后组合在一起沿一定方向喷射，调节两路气体的压力就可以改变气流的喷射方向和强度。实现矢量化调节进气的目的。在灵活调节的基础上可以使工艺气体在反应腔室中分布更均匀，使晶片表面发生的化学反应速度差异较小，刻蚀速率均匀，提高晶片刻蚀均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1、一种电感耦合等离子体装置，由电感耦合线圈、反应腔室与进气装置组成，其特征在于所述的进气装置包括至少两路进气气路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200520001643.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多功能绘图仪
- 下一篇：铜管与铝管的钎焊结构
