[发明专利]玻璃基片表面自组装聚电解质-稀土纳米薄膜的制备方法无效
申请号: | 200510112206.4 | 申请日: | 2005-12-29 |
公开(公告)号: | CN1807318A | 公开(公告)日: | 2006-07-26 |
发明(设计)人: | 程先华;顾勤林;白涛;蒋喆 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00;C03C17/34 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 毛翠莹 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种玻璃基片表面自组装聚电解质—稀土纳米薄膜的制备方法,采用表面经过强氧化剂处理的玻璃基片作为基底材料,将基片重复交替浸入带正电的聚二烯丙基二甲基氯化氨溶液和带负电的聚苯乙烯磺酸钠溶液中,在基片表面组装多层聚电解质薄膜,最后将表面附有带负电的聚电解质薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素、硝酸配制的稀土自组装溶液中,获得聚电解质-稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单,在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩、耐磨和抗粘着作用。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 表面 组装 电解质 稀土 纳米 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种玻璃基片表面自组装聚电解质一稀土纳米薄膜的制备方法,其特征在于将玻璃基片置于体积比98%浓硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中,于室温下处理1小时,再用去离子水超声清洗20分钟,接着再将基片浸入体积比H2O∶H2O2∶25%的浓氨水=5∶1∶1的溶液中浸泡1小时,再用去离子水超声清洗20分钟后烘干,然后将处理后的玻璃基片浸入带正电的聚二烯丙基二甲基氯化氨溶液中15分钟,取出用去离子水冲洗吹干,再浸入带负电的聚苯乙烯磺酸钠溶液中15分钟,取出用去离子水冲洗吹干,重复上述步骤在基片表面组装多层聚电解质薄膜;最后将表面附有带负电的聚电解质薄膜的基片置入配制好的稀土自组装溶液中,在80℃下组装12小时,即获得聚电解质一稀土自组装纳米薄膜;其中,所述聚二烯丙基二甲基氯化氨溶液和聚苯乙烯磺酸钠溶液的PH值分别为5.8和1.7,浓度均为0.005~0.01mmol/l,溶剂为去离子水;所述稀土组装溶液的组分重量百分比为:乙醇60~80%,稀土化合物4.5~7%,乙二胺四乙酸1~4%,氯化铵2~5%,尿素15~25%,硝酸0.5~1.5%。
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