[发明专利]微透镜阵列片及其制造方法无效
| 申请号： | 200510107526.0 | 申请日： | 2005-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1752775A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 吴昌勋;权赫;林泰宣;李泳柱;朴纪垣;成东默;李根雨 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社;LG麦可龙电子公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/04;G02B1/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨本良 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种微透镜阵列片及其制造方法。该微透镜阵列片包括：透明衬底，其被排列有微透镜；基部，其被在该透明衬底上形成至由用户所定的高度，该基部被形成在与后来要形成微透镜的相同的位置上；微透镜，其被形成在基部上；以及填隙薄膜，其被加在产生的微结构上，其中作为对该基部的上部进行平坦化的结果，该基部具有相同的高度。该方法包括步骤：(a)在透明支承衬底或薄膜上淀积具有用户所需的形状和厚度的基部成形模，并在该基部成形模间装入要用作基部的材料；(b)对要用作基部的材料的上部进行抛光，使得形成具有相同水平面的基部，并去除该基部成形模；(c)在形成的基部上淀积微透镜；以及(d)在产生的结构上淀积填隙薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微透镜阵列片，其包括：衬底；基部，其具有相同的高度，被淀积在该衬底上；微透镜，其被淀积在该基部上；以及填隙薄膜，其被淀积在产生的结构上。
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