[发明专利]曝光掩模的对位方法，以及薄膜元件基板的制造方法有效
| 申请号： | 200510099512.9 | 申请日： | 2005-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1755527A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 入口千春 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03H1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种既能保持同一曝光掩模中对准标记之间的最小容许间距，又能缩小对象体的对准标记所需要的区域，还能再利用对象体的同一掩模的曝光掩模的对位方法，及薄膜元件基板的制造方法。本发明提供使用形成对准标记的多个全息照相掩模，对成为形成对准标记的曝光对象体进行图案曝光时，使用两个对准标记，使全息照相掩模与对象体的对位，进行多次，使曝光掩模对位的方法，将对象体上为图案曝光的一个区域和与该区域曝光用掩模进行对位用标识连接的直线，将与对象体上一区域邻接的为图案曝光的其他区域，和与该其他区域曝光用掩模进行对位用标识连接的直线，以交叉方式设置各个对准标记进行对位的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 对位 方法 以及 薄膜 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光掩模的对位方法，是使用形成了对准标记的多个全息照相掩模，对成为形成了对准标记的曝光对象的对象体进行图案曝光时，使用两者的对准标记，进行多次上述全息照相掩模与上述对象体之间的对位，其特征在于：将上述对象体上的用于图案曝光的一个区域，和与该一个区域的曝光用的全息照相掩模进行对位用的对准标记连接的直线，将上述对象体上的与上述一个区域邻接的用于图案曝光的其他区域，和对于与该其他区域曝光用的全息照相掩模进行对位用的对准标记连接的直线，交叉地设置上述各个对准标记，进行对位。
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