[发明专利]清洗装置有效
| 申请号： | 200510093697.2 | 申请日： | 2005-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN1746330A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 木野村芳孝;平冈照雄;大川光治郎 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社;十亿科技株式会社;大川兴产株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种能去除附着在由金属薄膜所构成的屏蔽上的有机材料的清洗装置。本发明的清洗装置具有：由预定的清洗液清洗处理屏蔽10的第1及第2清洗槽21、22；用以真空蒸馏该清洗槽21、22的清洗液的真空蒸馏器30；将真空蒸馏的清洗液冷却至室温的第1冷却器31；使由第1冷却器31所冷却的清洗液回流至第2清洗槽22的第1回流管101；利用预定的冲洗液对屏蔽10进行冲洗处理的第1及第2冲洗槽51、52；在常压下蒸馏该冲洗槽51、52的清洗液的常压蒸馏器60；将常压蒸馏的冲洗液冷却至室温的第2冷却器61；使由第2冷却器61所冷却的冲洗液回流至第2冲洗槽52的第2回流管102。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1.一种清洗装置，用以去除附着在由金属薄膜所构成的屏蔽上的有机EL用的有机材料，其特征为具有：由预定的清洗液清洗处理前述屏蔽的清洗槽；从前述清洗槽真空蒸馏溢流的前述清洗液的真空蒸馏器；将由前述真空蒸馏器真空蒸馏的前述清洗液冷却至室温的第1冷却器；使由前述第1冷却器所冷却的前述清洗液回流至前述清洗槽的第1回流管；利用预定的冲洗液对通过前述清洗槽清洗的前述屏蔽进行冲洗处理的冲洗槽；在常压下蒸馏从前述冲洗槽溢流的前述冲洗液的常压蒸馏器；将由前述常压蒸馏器常压蒸馏的前述冲洗液冷却至室温的第2冷却器；使由前述第2冷却器所冷却的前述冲洗液回流至前述冲洗槽的第2回流管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社;十亿科技株式会社;大川兴产株式会社，未经三洋电机株式会社;十亿科技株式会社;大川兴产株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510093697.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多晶硅薄膜晶体管制造方法
- 下一篇：设备限位智能控制安全保护系统
- 同类专利
- 专利分类
