[发明专利]透明导电薄膜结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200510090627.1 | 申请日： | 2005-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN1917097A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | 杨明辉;陈楷林;温志中 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B1/08;H01B13/00;B82B1/00;B82B3/00;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种透明导电薄膜结构及其制造方法，具体为一种利用纳米氧化物颗粒形成的透明导电薄膜结构及其制造方法。以传统的湿式浸渍法在一透明基板上形成一透明导电薄膜，通过成膜时特殊的热处理步骤，使薄膜表面形成具有周期性且大抵平行的表面凹凸结构。这种结构能消除可见光反射的杂乱条纹，也能有效降低眩光。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 薄膜 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种透明导电薄膜结构，其特征在于所述透明导电薄膜结构包括：一透明导电薄膜，由纳米氧化物颗粒所构成，具有周期性且平行的表面凹凸结构。
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