[发明专利]具有微小图案的高分子光学元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 200510088994.8 申请日: 2005-08-04
公开(公告)号: CN1908699A 公开(公告)日: 2007-02-07
发明(设计)人: 李茂松;施希弦;郭锦龙;郑世楷;林俊宏;蔡昇颖 申请(专利权)人: 奇菱科技股份有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 代理人: 万学堂
地址: 台湾省台南县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种用来制造具有微小图案的高分子光学元件的制造方法,该制造方法包含以下步骤:在一基材上涂布一层可硬化的树脂的涂布树脂步骤、在该可硬化树脂上压印出微小图案的压印成型步骤,以及直接使一固化源邻近该可硬化树脂并使该树脂硬化成微小图案的直接固化步骤。借直接在尚未硬化的树脂上压印出该微小图案,再使固化源直接邻近树脂来进行固化的步骤,可以在制造简单、加工容易的同时,使该制造方法适合制造厚度较大的光学元件。
搜索关键词: 具有 微小 图案 高分子 光学 元件 制造 方法
【主权项】:
1.一种具有微小图案的高分子光学元件的制造方法,其特征在于:该制造方法包含以下步骤:涂布树脂:在一基材上涂布一层可硬化的树脂;压印成型:利用一母板在该可硬化的树脂上压印出微小图案;及直接固化:使一固化源直接作用在尚未硬化的树脂上并使该树脂固化。
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