[发明专利]光聚焦光学系统、光学拾波装置及光学记录和再现装置无效
| 申请号： | 200510085945.9 | 申请日： | 2005-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1734602A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 山本健二 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/135 | 分类号： | G11B7/135;G02B5/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 党建华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光聚焦光学系统、使用其的光学拾波装置及光学记录和再现装置、以及光聚焦方法，其中光聚焦光学系统通过使用衍射元件和透镜而把用于在多个不同种类光学记录介质上进行记录和或再现的光聚焦在记录介质上；衍射元件至少具有第一和第二衍射表面；第一衍射表面衍射波长为大于等于630nm且小于等于670nm的光，以便对光入射到其上的覆盖层厚度约为0.6mm的光学记录介质执行象差校正；第二衍射表面衍射波长为大于等于400nm且小于等于415nm的光，以便对光入射到其上的覆盖层厚度约为0.1mm或约0.6mm的光学记录介质执行象差校正。使用具有衍射光栅和透镜组合的光聚焦光学系统，以便通过使用一个物镜而获得多个光学记录介质之间的兼容性。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 光学系统 光学 装置 记录 再现 | ||
【主权项】：
1.一种光聚焦光学系统，包括：衍射元件和透镜，用于在多个不同种类光学记录介质上进行记录和/或再现的光通过所述衍射元件和透镜而聚焦在光学记录介质上，其中，所述衍射元件至少具有第一和第二衍射表面；所述第一衍射表面衍射波长为大于等于630nm且小于等于670nm的光，以便对覆盖层厚度约为0.6mm的光学记录介质执行象差校正，其中，光入射到所述覆盖层上；以及所述第二衍射表面衍射波长为大于等于400nm且小于等于415nm的光，以便对覆盖层厚度约为0.1mm或约0.6mm的光学记录介质执行象差校正，其中，光入射到所述覆盖层上。
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