[发明专利]对准方法和装置，光刻装置，器件制造方法和对准工具无效
| 申请号： | 200510084450.4 | 申请日： | 2005-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1725112A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一个实施例中，前后侧对准光学系统用于投影位于基片后侧的标记。前后侧对准光学系统设置成可使投影到前后侧对准光学系统的图象窗口的图象是基片后侧的标记的平移复制。这样机构的一个潜在优点是光轴位置的任何轻微不准确不会导致基片标记的图象的不准确。平移复制图象可用于基片的对准。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 方法 装置 光刻 器件 制造 工具 | ||
【主权项】：
1.一种对准方法，包括：设置基片到第一位置，使所述基片的标记位于所述基片后侧；所述基片位于所述第一位置时，形成所述基片标记的图象；和利用对准光束检测基准标记和所述图象之间对准程度；其中所述图象是所述基准标记的平移复制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510084450.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
