[发明专利]基板处理设备有效
| 申请号： | 200510083782.0 | 申请日： | 2005-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1716023A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李荣植 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种基板处理设备包括：用于移动基板的移动机构和一种高压喷射单元。该高压喷射元件包括：具有相对于基板移动方向横向放置的第一喷嘴部分的第一高压喷射器，以及具有平行于第一喷嘴部分的第二喷嘴部分的第二高压喷射器。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基板的设备，包括：移动机构，用于移动基板；和高压喷射单元，包括：第一高压喷射器，具有沿基板移动方向横向放置的第一喷嘴部分；以及第二高压喷射器，具有平行于所述第一喷嘴部分的第二喷嘴部分。
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