[发明专利]电子发射装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200510072171.6 | 申请日： | 2005-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1707740A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 李受贞 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01J31/12 | 分类号： | H01J31/12;H01J29/02;H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;冯敏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种电子发射装置，包括互相面对并且形成真空区域的第一衬底和第二衬底。在第一衬底上设置电子发射区域，在第二衬底上设置具有光发射区和非光发射区的光发射区域。光发射区域包括形成在第二衬底上的至少一层荧光层。至少一个阳极覆盖该荧光层。阳极还定位成在阳极和非光发射区之间没有间隙。在光发射区，阳极的形状遵循荧光层的形状，并在阳极和荧光层之间形成间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 发射 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种电子发射装置，包括：第一衬底和第二衬底，两者互相面对并且形成真空区域；电子发射区域，位于所述第一衬底；以及光发射区域，包括光发射区和非光发射区，位于所述第二衬底，其中：所述光发射区包括在所述第二衬底上形成的至少一层荧光层，以及所述至少一层荧光层上覆盖至少一个阳极，所述至少一个阳极在光发射区遵循所述至少一层荧光层的形状，所述至少一个阳极和所述至少一层荧光层之间形成预定的间隙，而所述至少一个阳极与所述非光发射区接触。
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