[发明专利]光束均化器和激光照射装置有效
| 申请号： | 200510071783.3 | 申请日： | 2005-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN1740845A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 田中幸一郎;大石洋正 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;G02B3/00;H01L21/00;B23K26/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;梁永 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由于光学元件特性的缘故，光学元件在光学系统中的设置是受限的，所以在设计用于形成预定的激光束的光学系统中存在困难。本发明的目的是为了设计具有所需功能的光学系统，该光学系统不受设置光学元件的限制的影响。因此，将离轴柱面透镜阵列用作作用在光束长边方向上的柱面透镜阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 均化器 激光 照射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种透镜阵列，包括：多个离轴柱面透镜；其中每个离轴柱面透镜的母线在远离透镜阵列中心的反方向上远离中心轴，和其中母线和离轴柱面透镜的中心轴之间的距离从透镜阵列的中心向透镜阵列的两端增加。
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